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高速激光直写光刻系统虚拟仿真本仿真实验仿真紫外高速激光直写光刻工艺进行虚拟仿真实验为真实的光刻实验提供优化的参数，实现虚实结合，指导真实的光刻实验，同时也可以实现多人一起进行仿真实验，提高实验的利用率。 本仿真实验仿真紫外高速激光直写光刻工艺的主要流程（主要包括基片清洗、基片脱水烘培、光刻胶旋涂、前烘、曝光、显影、样品观察、关闭仪器等），学生通过仿真实验平台进行教学视频预习、在线实验操作、参数优化设计和实验考核。 1.基片清洗 2. 基片脱水烘培 3. 光刻胶旋涂
4.前烘
5.曝光 6.显影 7.观察样品 8. 关闭仪器
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